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國立交通大學舉辦2019 GASE Formosa+ GX 國際專家工作坊-「繼往開來:建立全球化半導體研發及人才培育基地」

公告類型: 單位公告
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一、國立交通大學謹訂於108年10月25日(星期五)舉辦2019 GASE Formosa+ GX 國際專家工作坊-「繼往開來:建立全球化半導體研發及人才培育基地」,敬邀貴校相關領域之教職員生踴躍參加。

二、旨揭活動為國立交通大學與科技部全球事務與科學發展中心共同舉辦,並邀請國內外半導體元件材料領域著名學者及傑出產業領袖,從產學並進方式落實跨界整合及深化國際研究合作層面探討,分享如何導入國際能量並串聯企業合作,培育出新一代半導體研發創新人才,以持續推升臺灣半導體科技發展之全球優勢,歡迎相關領域人員踴躍參加。

三、
活動相關資訊說明如下:
(一)時間:108年10月25日(星期五)10時至13時
(二)地點:國立交通大學(光復校區)浩然圖書資訊中心B1國際會議廳(新竹市東區大學路1001號)
(三)講者:
1、引言人:程海東 博士/交通大學國際半導體產業學院講座教授
2、與談人:
(1)任廣禹 博士/香港城市大學學務副校長
(2)孫元成 博士/前台積電副總經理兼技術長
(3)陳冠能 博士/交通大學國際長暨國際半導體產業學院副院長
(四)報名方式:本活動免費入場,自即日起受理報名,有意參與者請逕至線上報名系統登錄(https://forms.gle/cksMZQaHWETT71Wf9),席位有限額滿為止。
(五)本活動敬備餐點,為響應環保政策,請自行攜帶飲水容器。

四、檢附活動海報及議程各1份,如需進一步瞭解資訊,請逕洽本校研發處研發企劃組承辦人郭小姐,連絡電話03-5712121轉分機53255。
發布日期: 2019/10/02 至 2019/10/25





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